清洗有很多種，化學(xué)清洗就是其中一種，下面東營清洗公司的小編跟大家介紹一下什么是化學(xué)清洗。
1 化學(xué)清洗

 

在半導(dǎo)體器件工藝實驗中．化學(xué)清洗是指根除吸附在半導(dǎo)體、金屬材料以及用具表面上的各種有害雜質(zhì)或油污。清洗辦法是運(yùn)用各種化學(xué)試劑和有機(jī)熔劑與吸附在被清洗物體表面上的雜質(zhì)及油污發(fā)生化學(xué)反應(yīng)和溶解作用，或伴以超聲．加熱、抽真空等物理辦法，使雜質(zhì)從被清洗物體的表面脫附（或稱解吸），然后用大量高純冷熱去離子水沖刷，然后取得潔凈的物體表面。

 

1.1 化學(xué)清洗的重要性

 

工藝實驗中每個實驗都有化學(xué)清洗的問題，化學(xué)清洗的好壞對實驗作用有嚴(yán)峻的影響，處理不當(dāng)，則得不到實驗作用或?qū)嶒炞饔们泛?。因而弄清楚化學(xué)清洗的作用和原理，對做好工藝實驗有著重要的含義。咱們知道，半導(dǎo)體的重要特性之一是對雜質(zhì)十分靈敏，只要有百萬分之一，乃至微量的雜質(zhì)，就會對半導(dǎo)體的物理性質(zhì)有所影響，咱們就是運(yùn)用這一特性，通過摻雜的辦法．制造各種功用的半導(dǎo)體器件。但也因為這一特性，給半導(dǎo)體器件工藝實驗帶來費事和困難．所運(yùn)用的化學(xué)試劑、生產(chǎn)東西，清洗用的水等都可能成為有害雜質(zhì)的沾污源．即使是清潔的半導(dǎo)體晶片，較長時刻露出于空氣之中．也會引入顯著的雜質(zhì)沾污?；瘜W(xué)清洗就是消除有害雜質(zhì)沾污，堅持硅片表面清潔。

 

1.2 化學(xué)清洗的規(guī)模

 

化學(xué)清洗首要包含三個方面的清洗，一是硅片表面的清洗；二是運(yùn)用的金屬材料（如作蒸騰電極用的鎢絲，作蒸騰墊板用的鉬片、作蒸騰源用的鋁合金，制鉻板用的鉻等）的清洗；三是所用東西、器皿（如金屬鑷子．石英管、玻璃容器、石墨模具、塑料和橡膠制品等）的清洗。
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